特征

可装载4种靶材

阴极可替换为其它部件

双旋转滚筒阴极可稳定放电

高反应等离子体源用于低吸收膜

自动上下片基板搬送系统

规格

真空腔体 装片室：304不锈钢，宽500mm×深800 mm×高2890 mm
工艺室：304不锈钢，直径1650 mm×高1200 mm

基板夹具 可选13 – 22片

旋转滚筒系统： 直径1500 mm, 滚筒式, 10 rpm - 100 rpm

反应源 ICP（电感耦合等离子体）

溅射源 双旋转阴极（可选平面靶材）

真空系统 粗抽泵，分子泵

性能

极限压力 装片室：10Pa
工艺室：≤5.0 × 10-4 Pa

抽气速率 装片室：≤20 分钟 (从大气到 1.0×10-1 Pa)
工艺室：≤40分钟(从大气到5.0×10-3 Pa)

基板加热温度 可选150℃

工作条件

设备尺寸 5800 mm (宽) × 7700 mm (深)×3200 mm (高)

电源 3相, 380V ± 10％、130kVA、50/60Hz

水流量 ≥180升/分钟

空气压力 0.5 MPa - 0.7 MPa

重量 约13000 kg