RPD-1000 (ITO/AlN)

特征

通过反应性等离子源同时实现成膜材料的蒸发及活性化

通过能量镀制高品质的结晶膜

与常规蒸镀相较，实现低温、低成本量产

规格

真空室 Ф1000mm×H 1165mm

基板架 Ф870 mm

基板架转速 10～30rpm

晶振式膜厚计 6点式水晶传感器

蒸发源 反应性等离子源

性能

达到压力 1.0E-4 Pa 以下

排气时间 20分以下（大气压～1.3×10-3 Pa以下）

工作条件

设备尺寸 约4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)

电源 3相＋G,200V±5%, 约75KVA

水流量 80升/分以上

空气压力 0.5 MPa - 0.7 MPa

重量 约4000 kg