Gener-1300

特征

采用了磁流体密封技术的中心旋转式基板架，保证了薄膜产品的重复性与均匀性

优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短

可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)

规格

真空室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)

基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）

基板架转速 最大30rpm(可调)

晶振式膜厚计 XTC/3+6点式水晶传感器

蒸发源 电子枪1台

性能

极限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下

抽气速度 10分（大气压～3.0×10-3Pa）

基板最高加热温度 最高350℃

工作条件

安装空间 约4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)

电力 3相，200V，50/60Hz，约80KVA

水流量 100升/分以上

压缩空气压力 0.5-0.7MPa

重量 约5000kg