离子源

OIS-Four

OIS-Four是光驰自行开发的离子辅助蒸度高性能射频(RF)离子源,最适于在高速率下的离子束辅助沉积(IAD)及清洗。栅网口径虽然只有10CM,但是设计上充分考虑到高电流密度,均一性,搭载在光驰的成膜设备OTFC-600,OTFC-900进行工件架的全面照射,最适于各种光学滤光片的中规模量产,试制,研究开发。

特征
同使用灯丝型的离子源比较,寿命长,污染少。
高离子电流密度和均匀分布,照射面积能达到Ф800mm以上
动作安定性高,能长时间运转
规格
尺寸 φ 224mm ×143mm (H)
栅网尺寸 Ф 10cm(Molybdenum制3枚)
离子束电压 100V~1500V
离子束电流 500mA(max)
Acc电压 100V~1000V
RF功率 600W(max)
气体流量 25sccm~35sccm(氩气)10sccm~20sccm(氩气)
使用压力 5.0 ×10-2 Pa
水冷方式 RF线圈和本体
中和器规格
尺寸 φ 6cm × 8cm
发射电流 1500mA(max)
RF功率 150W(max)
气体流量 5sccm~8sccm(氩气)