离子源

OIS-One/OIS-Two/OIS-Two Plus

17cm RF Ion Source

OIS-One是光驰自行开发的离子辅助蒸度高性能射频(RF)离子源,最适于在高速率下的离子束辅助沉积(IAD)及清洗。搭载在光驰的成膜设备OTFC-1100,OTFC-1300上最适于各种光学滤光片的中规模量产。 OIS-Two Plus是OIS-Two的延伸机型。在离子辅助蒸镀大电流大面积的性能方面加以进化的RF离子源,维护性能的优化及中和器的改良,提高冷却效率来达到稳定生产的效果。适用于在高速率下离子束辅助沉积(IAD)及清洗。搭载在光驰的OTFC-1300,OTFC-1550成膜设备上可适合于各种光学滤光片的大规模量产。

特征
同使用灯丝型的离子源比较,寿命长,污染少。
高离子电流密度和均匀分布,照射面积能达到Ф1150mm以上
动作安定性高,能长时间运转
规格
型号 OIS-One OIS-Two OIS-Two Plus
尺寸 φ300mm × 150mm (H)
栅网尺寸 Ф 17cm(Molybdenum制3枚)
离子束电压 100V~1500V
离子束电流 1000mA 1200mA
Acc电压 100V~1000V
RF功率 600W 750W 1000W
气体流量 20sccm~30sccm(氩气)40sccm~60sccm(氧气)
使用压力 5 × 10-2 Pa
水冷方式 RF线圈和本体
中和器规格
尺寸 φ 6cm × 8cm