关于SPUTTER系列

NSC-15型设备是可用于批量生产光学薄膜的溅射镀膜机,采用金属模式溅射技术并搭载高反应性等离子体源。 另配备了上下片搬送系统,可实现高产量的生产。

特征
最多可装载4种靶材
阴极可替换为其它部件
双旋转滚筒阴极可稳定放电
高反应等离子体源用于低吸收膜
自动上下片基板搬送系统
规格
真空腔体 装片室:304不锈钢,宽500mm×深800 mm×高2890 mm
工艺室:304不锈钢,直径1650 mm×高1200 mm
基板夹具 可选13 – 22片
旋转滚筒系统: 直径1500 mm, 滚筒式, 10 rpm - 100 rpm
反应源 ICP(电感耦合等离子体)
溅射源 双旋转阴极(可选平面靶材)
真空系统 粗抽泵,分子泵
性能
极限压力 装片室:10Pa
工艺室:≤5.0 × 10-4 Pa
抽气速率 装片室:≤20 分钟 (从大气到 1.0×10-1 Pa)
工艺室:≤40分钟(从大气到5.0×10-3 Pa)
基板加热温度 可选150℃
工作条件
设备尺寸 5800 mm (宽) × 7700 mm (深)×3200 mm (高)
电源 3相, 380V ± 10%、130kVA、50/60Hz
水流量 ≥180升/分钟
空气压力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 约13000 kg