关于SPUTTER系列

NSC-2350是用于光学薄膜的金属式溅射设备,尤其适用于大面积基板的最佳系统。 可用于移动终端设备、汽车等大面积面板的AR+AS膜。

特征
镀膜面积:高1100mm×宽450 mm
6个阴极靶
用可选组件更换阴极
高反应性等离子体源实现低吸收膜
自动上下片基板搬送系统
通过优化沉积和搬送系统实现低颗粒薄膜
一个程序可镀AR/AS膜
规格
真空腔体 装片室:304不锈钢,宽700mm×高1860 mm×深1760 mm
卸片室: 宽700×高1860×深1760mm
运送室: 宽660×高1860×深1760mm
工艺室:304不锈钢,直径2350 mm×高1950 mm
基板夹具 可选15– 22片
基板旋转滚筒系统 直径2245 mm, 滚筒式, 10rpm-50 rpm(可调)
反应源 ICP(电感耦合等离子体)
溅射源 双旋转阴极(可选平面靶材)
真空系统 粗抽泵,分子泵,冷阱
性能
极限压力 装片室:10Pa
工艺室:≤2.0 × 10-4 Pa
抽气速率 装片室:≤8 分钟 (从大气到 10Pa)
工艺室:≤40分钟(从大气到9.0×10-4 Pa)
工作条件
设备尺寸 7000 mm (宽) × 6600 mm (深)×4000 mm (高)
电源 3相+G, 380V±5%、300kVA、50/60Hz
水流量 ≥400升/分钟(水压:0.6-0.7 Mpa)
压缩空气 0.5 MPa - 0.7 MPa
总重重 约30000 kg