OTFC-1100

特征

真空室尺寸：Φ600-1800mm

60点/80点式光学膜厚监控

使用均匀分布的高离子电流密度的离子源

搭载双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上

利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程

工件架可选择钟罩式或行星式

排气系统可选择扩散泵+低温冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵

规格

设备名称 OTFC-1100CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1100mm×1520mm (H)

工件架 φ950mm

工件架转速 10rpm to 50rpm(可变)

光学膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光学膜厚监控仪
波长范围:350nm to 1100nm
反射式/透射式可选

水晶式膜厚计 XTC/3+6点式水晶传感器

蒸发源 电子枪2套

离子源 17cmRF离子源

排气系统 机械泵+2个扩散泵+Polycold（或2个冷凝泵）

性能

达到压力 7.0×10-5Pa以下

排气时间 15分（大气压～1.3×10-3Pa）

基板温度 最高：350℃

工作条件

设备尺寸 约5000mm(W)×6000mm(D)×3300mm(H)

电源 3相,200v,50/60Hz, 约100KVA

水流量 120升/分以上

空气压力 0.5MPa以上

重量 约7200kg