OIS-Four型RF离子源 2007-09-20

 OIS-Four是本公司自行研制开发的最适合IAD蒸镀的小型高性能的射频(RF)离子源。

的小口径栅网，优良的离子电流密度均匀性设计，使其成为本公司OTFC-600型及OTFC-900型光学镀膜机所最适配的离子源。

OIS-Four型RF离子源适用于各种光学滤光片的试制与生产,及其他领域的研究开发等用途,也可以用于高效率真空镀膜过程中基板的离子洗净。

该产品也可适用于客户现有镀膜机的离子源追加改装。