OTFC-1800

特征

真空室尺寸：Φ600-1800mm

60点/80点式光学膜厚监控

使用均匀分布的高离子电流密度的离子源

搭载双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上

利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程

工件架可选择钟罩式或行星式

排气系统可选择扩散泵+低温冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵

规格

设备名称 OTFC-1800CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1800mm×1920mm (H)

工件架 φ1600mm

工件架转速 10rpm to 30rpm(可变)

光学膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光学膜厚监控仪
波长范围：350nm to 1100nm
反射式或透射式

石英晶振膜厚计 XTC/3+6点式石英晶体传感器

蒸发源 电子枪2套

离子源 23cmRF离子源

排气系统 机械泵+2个扩散泵+Polycold（或2个冷凝泵）

性能

达到压力 7.0×10-5 Pa 以下

排气时间 20分（大气压～1.3×10-3 Pa)

基板温度 最高：350℃

工作条件

设备尺寸 约5700mm(W)×7700mm(D)×4000mm(H)

电源 3相, 200V, 50/60Hz, 约150kVA

水流量 180升/分以上

空气压力 0.5MPa以上

重量 约11200kg